某半导体技术研制中小型企业因晶圆洗涤加工过程导致含氨生产废水，供水量200吨/天。生产废池里除化学需氧量外还包含有氟化物和氢化物发生器巨资属，处理高难度大。当地政府排出规则请求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 工业废水化学成分及起源 晶圆清晰废水处理工艺（主要的种类）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀道工序废水处理：含少量铜、镍等巨资属，pH值冲击大 CMP研磨设备废水处理方法：含硅颗料及氟化物 外理的工艺步骤 所采用"化学上的析出+膜隔离+折点氯化"整合新工艺： 预清理 ：污泥脱水CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 反渗透膜软件系统 ：除去0.01μm上述粉末物 ro反渗透性溶缩 ：将氯离子精提至1000mg/L以内 折点氯化 ：高精度设定氯污泥脱水量，将氟化物和转化了为氦气 阴阳离子互转 ：后勤保障高价属考核标准 终究功效 氧化还原电位稳定性高＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属分量降到判断限 水中水回用率达75% 飞灰引发量减掉40%